N-Polar GaN HEMTs in a High-Uniformity 100-mm Wafer Process With 43.6% Power-Added Efficiency and 2 W/mm at 94 GHz

Author:

Arias-Purdue Andrea1ORCID,Rowell Petra V.1,King Casey M.1,Carter Andrew D.1,Paniagua Andres1,Shinohara Keisuke1ORCID,Bergman Josh1,Urteaga Miguel E.1ORCID,Miller Nicholas C.2ORCID,Elliott Michael3,Gilbert Ryan3,Herrault Florian4,Green Daniel4,Buckwalter James F.4

Affiliation:

1. Teledyne Scientific Company, Thousand Oaks, CA, USA

2. Air Force Research Laboratory Sensors Directorate, Wright-Patterson Air Force Base, Dayton, OH, USA

3. KBR, Wright-Patterson Air Force Base, Dayton, OH, USA

4. Pseudolithic, Inc.,, Santa Barbara, CA, USA

Funder

ONR

Publisher

Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)

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