Self-aligned normally-off metal-oxide-semiconductor n++GaN/InAlN/GaN high electron mobility transistors

Author:

Blaho M.1,Gregušová D.1,Haščík Š.1,Jurkovič M.1,Ťapajna M.1,Fröhlich K.1,Dérer J.1,Carlin J. -F.2,Grandjean N.2,Kuzmík J.1

Affiliation:

1. Institute of Electrical Engineering; Slovak Academy of Sciences; Dubravska cesta 9 841 04 Bratislava Slovakia

2. Institute of Quantum Electronics and Photonics; EPFL Lausanne; 1015 Lausanne Switzerland

Publisher

Wiley

Subject

Materials Chemistry,Electrical and Electronic Engineering,Surfaces, Coatings and Films,Surfaces and Interfaces,Condensed Matter Physics,Electronic, Optical and Magnetic Materials

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