RF performance of Standard, High-Resistivity and Trap-Rich Silicon substrates down to cryogenic temperature
Author:
Affiliation:
1. CEA-Leti, Univ. Grenoble Alpes,Grenoble,France,F-38000
2. Université Catholique de Louvain,Louvain-la-Neuve,Belgium
Funder
Labex
Publisher
IEEE
Link
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/10268496/10268469/10268536.pdf?arnumber=10268536
Reference15 articles.
1. High Q inductors and capacitors on Si substrate
2. Physical Models of Planar Spiral Inductor Integrated on the High-Resistivity and Trap-Rich Silicon-on-Insulator Substrates
3. Electrical Properties of Silicon Containing Arsenic and Boron
4. RF performances at cryogenic temperature of inductors integrated in a FDSOI technology
Cited by 1 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献,注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献,订阅后可以查看论文全部施引文献
1. Various RF Substrate Solutions for 22 nm FD-SOI Technology Targeting Cryogenic Applications;2024 IEEE/MTT-S International Microwave Symposium - IMS 2024;2024-06-16
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