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Fast sparse aerial-image calculation for OPC

Author:

Cobb Nicolas B.,Zakhor Avideh

Publisher

SPIE

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1. Label-free neural networks-based inverse lithography technology;Optics Express;2022-11-30

2. 深紫外计算光刻技术研究;Laser & Optoelectronics Progress;2022

3. Random forest-based robust classification for lithographic hotspot detection;Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS;2019-05-14

4. Optical Proximity Correction (OPC) Under Immersion Lithography;Micro/Nanolithography - A Heuristic Aspect on the Enduring Technology;2018-05-02

5. Accurate lithography simulation model based on convolutional neural networks;SPIE Proceedings;2017-07-13

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