Selective Epitaxy of InP on Si and Rectification in Graphene/InP/Si Hybrid Structure

Author:

Niu Gang12,Capellini Giovanni23,Hatami Fariba4,Di Bartolomeo Antonio5,Niermann Tore6,Hussein Emad Hameed4,Schubert Markus Andreas2,Krause Hans-Michael2,Zaumseil Peter2,Skibitzki Oliver2,Lupina Grzegorz2,Masselink William Ted4,Lehmann Michael6,Xie Ya-Hong7,Schroeder Thomas28

Affiliation:

1. Electronic Materials Research Laboratory, Key Laboratory of the Ministry of Education & International Center for Dielectric Research, Xi’an Jiaotong University, Xi’an 710049, China

2. IHP, Im Technologiepark 25, 15236 Frankfurt (Oder), Germany

3. Dipartimento di Scienze, Università Roma Tre, Viale Marconi 446, 00146 Rome, Italy

4. Institut für Physik, Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät, Humboldt Universtät zu Berlin, Newtonstrasse 15, 12489 Berlin, Germany

5. Dipartimento di Fisica “E. R. Caianiello″ Universita’ degli Studi di Salerno Via Giovanni Paolo II, 132, Fisciano, Salerno I 84084, Italy

6. Technische Universität Berlin, Institut für Optik und Atomare Physik, Straße des 17. Juni 135, 10623 Berlin, Germany

7. University of California at Los Angeles, Department of Materials Science and Engineering, Los Angeles, California 90095-1595, United States

8. Brandenburgische Technische Universität, Konrad-Zuse-Strasse 1, 03046 Cottbus, Germany

Funder

Deutsche Forschungsgemeinschaft

Publisher

American Chemical Society (ACS)

Subject

General Materials Science

同舟云学术

1.学者识别学者识别

2.学术分析学术分析

3.人才评估人才评估

"同舟云学术"是以全球学者为主线,采集、加工和组织学术论文而形成的新型学术文献查询和分析系统,可以对全球学者进行文献检索和人才价值评估。用户可以通过关注某些学科领域的顶尖人物而持续追踪该领域的学科进展和研究前沿。经过近期的数据扩容,当前同舟云学术共收录了国内外主流学术期刊6万余种,收集的期刊论文及会议论文总量共计约1.5亿篇,并以每天添加12000余篇中外论文的速度递增。我们也可以为用户提供个性化、定制化的学者数据。欢迎来电咨询!咨询电话:010-8811{复制后删除}0370

www.globalauthorid.com

TOP

Copyright © 2019-2024 北京同舟云网络信息技术有限公司
京公网安备11010802033243号  京ICP备18003416号-3