Area-Selective Deposition of Tantalum Nitride with Polymerizable Monolayers: From Liquid to Vapor Phase Inhibitors

Author:

Lionti Krystelle1,Arellano Noel1,Lanzillo Nicholas2,Nguyen Son2,Bhosale Prasad S.2,Bui Holt1,Topuria Teya1,Wojtecki Rudy J.1ORCID

Affiliation:

1. International Business Machines─Almaden Research Center, 650 Harry Road, San Jose, California 95120, United States

2. International Business Machines─Semiconductor Technology Research, 257 Fuller Road, Albany, New York 12203, United States

Publisher

American Chemical Society (ACS)

Subject

Materials Chemistry,General Chemical Engineering,General Chemistry

同舟云学术

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