Characterization of a Magnetron Plasma for Deposition of Titanium Oxide and Titanium Nitride Films

Author:

Hippler R.,Wrehde S.,Straňák V.,Zhigalov O.,Steffen H.,Tichý M.,Quaas M.,Wulff H.

Publisher

Wiley

Subject

Condensed Matter Physics

Reference11 articles.

1. , , (Eds.) Low Temperature Plasma Physics, Fundamental Aspects and Applications , Berlin: Wiley-VCH (2001).

2. , , , , , in: Advances in Solid State Physics , Vol. 44 (Kramer B, Ed.), Springer-Verlag: Heidelberg, p. 299 (2004), and references therein.

3. The growth process of plasma-deposited ITO films investigated by grazing incidence X-ray techniques

4. , in: Low Temperature Plasma Physics (R. Hippler, S. Pfau, M. Schmidt, K. H. Schoenbach, Eds.), Berlin: Wiley-VCH, p. 131 (2001).

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