UVCVD dielectric films for InP-based optoelectronic devices

Author:

Post G.,Le Bellégo Y.,Courant J.L.,Scavennec A.

Publisher

Elsevier BV

Subject

Mechanical Engineering,Mechanics of Materials,Condensed Matter Physics,General Materials Science

Reference19 articles.

1. UV photo-assisted formation of silicon dioxide;Fogarassy,1988

2. Soft CVD passivation applied to InP-based devices;Scavennec;Solid-State Electronics,1990

3. Transistors à grille isolée sur InP à structure auto-alignée;Courant,1990

4. Comparative reliability study of GaAs power MESFETs;Dumas;Electron. Lett.,1985

5. Stabilization and removal of the native oxides at the surface of (100) InP by low pressure exposure to NH3;Moison;J. Appl. Phys.,1989

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