1. Auth C. Cappellani A. Chun J.-S. Dalia A. Davis A. Ghani T. Glass G. Glassman T. Harper M. Hattendorf M. Hentges P. Jaloviar S. Joshi S. Klaus J. Kuhn K. Lavric D. Lu M. Mariappan H. Mistry K. Norris B. Rahhal-orabi N. Ranade P. Sandford J. Shifren L. Souw V. Tone K. Tambwe F. Thompson A. Towner D Troeger T. Vandervoom P. Wallace C. Wiedemer J. Wiegand C. , Symp. VLSI Dig., 128 (2008).
2. Barns C. E. Prince M. Doczy M. L. Brask J. K. Kavalieros J. , U.S. Patent 2006/004,644,8A1 (2006).
3. Kwon U. Wong K. Krishnan S. A. Economikos L. Zhanga X. Ortolland C. Thanha L. D. Laloea J. B. Huanga J. Y. Edge L. F. Wanga H. M. Gribelyuk M. A. Rath D. L. Bingertb R. Liua Y. Bao R. Kimc I. Ramachandran R. Lai W. L. Cutler J. Salvadora D. S. Zhanga Y. Muncy J. Paruchuri V. Krishnan M. Narayanan V. Divakaruni R. Chen X. Chudzik M. P. , VLSI., 32 (2011).
4. Minimizing the effects of galvanic corrosion during chemical mechanical planarization of aluminum in moderately acidic slurry solutions
5. Role of Potassium Permanganate-Based Solutions in Controlling the Galvanic Corrosion at Al-Co Interface