Experimental verification of EUV mask limitations at high numerical apertures

Author:

Chao Rikon,Graeupner Paul,Gullikson Eric,Kim Seong-Sue,Neumann Jens-Timo,Miyakawa Ryan,Seo Hwan-Seok,Neureuther Andy,Naulleau Patrick

Publisher

SPIE

Cited by 4 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献,注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献,订阅后可以查看论文全部施引文献

1. EUV mask characterization with actinic scatterometry;International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018;2018-10-03

2. Actinic EUV scatterometry for parametric mask quantification;Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IX;2018-03-19

3. Update on optical material properties for alternative EUV mask absorber materials;33rd European Mask and Lithography Conference;2017-09-28

4. Predicting LER PSD caused by mask roughness using a mathematical model;SPIE Proceedings;2014-04-17

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