Improved Bake Latitude Organic Anti-Reflective Coatings for High Resolution Metallisation Lithography

Author:

Martin B.1,Odell A. N.1,Lamb III J. E.1

Affiliation:

1. Plessey Research (Caswell) Ltd (England)

Publisher

SPIE

Cited by 4 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献,注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献,订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Resist Technology—Design, Processing, and Applications;Handbook of VLSI Microlithography;2001

2. Microlithography: An overview;Advanced Materials for Optics and Electronics;1994-03

3. An inorganic anti‐reflective coating for use in photolithography;Journal of Applied Physics;1993-04-15

4. Titanium mononitride as an antireflection layer on aluminium metallization for submicron photolithographic patterning;Semiconductor Science and Technology;1991-12-01

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