Kinetics, stoichiometry, morphology, and current drive capabilities of Ir-based silicides

Author:

Larrieu G.,Dubois E.,Wallart X.,Katcki J.

Publisher

AIP Publishing

Subject

General Physics and Astronomy

Reference20 articles.

1. Comparison of TiSi2 , CoSi2, and NiSi for Thin‐Film Silicon‐on‐Insulator Applications

2. Silicides for the 100-nm node and beyond: Co-silicide, Co(Ni)-silicide and Ni-silicide

3. Materials Research Society Symposia Proceedings;Kittl J.,2003

4. J. Derrien, in Properties of metal silicides, edited by K. Maex and M. Van Rossum (IEE INSPEC, London, 1995), p. 164.

5. Compatibility Challenges for High-ĸ Materials Integration into CMOS Technology

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