Backscattering analysis of the composition of silicon‐nitride films deposited by rf reactive sputtering

Author:

Mogab C. J.1,Lugujjo E.1

Affiliation:

1. Bell Laboratories, Murray Hill, New Jersey 07974

Publisher

AIP Publishing

Subject

General Physics and Astronomy

Reference24 articles.

1. K. H. Zaininger and Chih‐Chun Wang, Proc. IEEE 59, 1564 (1969).IEEPAD0018-9219

2. J. Gyulai, O. Meyer, J. W. Mayer, and V. Rodriguez, J. Appl. Phys. 42, 451 (1971).JAPIAU0021-8979

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5. E. A. Taft, J. Electrochem. Soc. 118, 1341 (1971).JESOAN0013-4651

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