Si doped GaP layers grown on Si wafers by low temperature PE-ALD

Author:

Gudovskikh A. S.12ORCID,Uvarov A. V.1,Morozov I. A.1ORCID,Baranov A. I.1,Kudryashov D. A.1ORCID,Nikitina E. V.1,Bukatin A. A.1,Zelentsov K. S.1ORCID,Mukhin I. S.1,Levtchenko A.3,Le Gall S.3,Kleider J.-P.3

Affiliation:

1. St.Petersburg National Research Academic University RAS, 194021 St. Petersburg, Russia

2. Saint-Petersburg Electrotechnical University “LETI,” 197376 Saint-Petersburg, Russia

3. GeePs, Group of Electrical Engineering - Paris, UMR 8507 CNRS, Centrale Supélec, Univ. Paris-Sud, Université Paris-Saclay Sorbonne Universités, UPMC Univ Paris 06, 91192 Gif-sur-Yvette Cedex, France

Funder

Russian Science Foundation

Publisher

AIP Publishing

Subject

Renewable Energy, Sustainability and the Environment

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