Pyroelectric response in crystalline hafnium zirconium oxide (Hf1-xZrxO2) thin films

Author:

Smith S. W.1,Kitahara A. R.1ORCID,Rodriguez M. A.1,Henry M. D.1,Brumbach M. T.1,Ihlefeld J. F.1

Affiliation:

1. Sandia National Laboratories, Albuquerque, New Mexico 87185, USA

Publisher

AIP Publishing

Subject

Physics and Astronomy (miscellaneous)

Reference26 articles.

1. Ferroelectricity and Antiferroelectricity of Doped Thin HfO2-Based Films

2. Ferroelectricity in hafnium oxide thin films

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5. Low-Voltage Steep Turn-On pMOSFET Using Ferroelectric High-$\kappa$ Gate Dielectric

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