10.4139/sfj.59.526
Author:
Publisher
The Surface Finishing Society of Japan
Subject
General Engineering
Reference16 articles.
1. 2) 2007年1月27日付けIntel社およびIBM社からのプレスリリース資料 (各社ホームページに掲載).
2. 3) 服部 毅編著;新版シリコンウェーハ表面のクリーン化技術 (リアライズ社, 2000).
3. 4) 服部 毅;エレクトロニクス洗浄技術, p. 157 (技術情報協会, 2007).
4. 5) 服部 毅;2007年半導体材料技術大全, p. 122 (電子ジャーナル, 2007).
Cited by 4 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献
1. プラズマを利用した洗浄技術とその応用;Journal of The Surface Finishing Society of Japan;2023-07-01
2. Large-scale vortical structure detection using microphone array in a semiconductor single wafer spin cleaner;Transactions of the JSME (in Japanese);2017
3. Periodical structure of vortices in a semiconductor single wafer spin cleaner;Transactions of the JSME (in Japanese);2015
4. 10.4139/sfj.61.578;Journal of The Surface Finishing Society of Japan;2010
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