Localized and Programmable Chemical Vapor Deposition Using an Electrically Charged and Guided Molecular Flux-Reference-Cited by-同舟云学术

Localized and Programmable Chemical Vapor Deposition Using an Electrically Charged and Guided Molecular Flux

Published:2020-09-23 Issue:10 Volume:14 Page:12885-12894
ISSN:1936-0851
Container-title:ACS Nano
language:en
Short-container-title:ACS Nano

Author:

Reiprich Johannes¹,Isaac Nishchay A.¹,Schlag Leslie¹,Kups Thomas²,Hopfeld Marcus²,Ecke Gernot¹,Stauden Thomas¹,Pezoldt Jörg¹,Jacobs Heiko O.¹^ORCID

Affiliation:

1. Fachgebiet Nanotechnologie, Institut für Werkstofftechnik, Institut für Mikro- und Nanoelektronik und Institut für Mikro- und Nanotechnologien MacroNano, Technische Universität Ilmenau, Postfach 100565, 98684 Ilmenau, Germany

2. Fachgebiet Werkstoffe der Elektrotechnik, Institut für Werkstofftechnik, Institut für Mikro- und Nanoelektronik und Institut für Mikro- und Nanotechnologien MacroNano, Technische Universität Ilmenau, Postfach 100565, 98684 Ilmenau, Germany

Funder

Deutsche Forschungsgemeinschaft

Publisher

American Chemical Society (ACS)

Subject

General Physics and Astronomy,General Engineering,General Materials Science

Link

https://pubs.acs.org/doi/pdf/10.1021/acsnano.0c03726

Reference41 articles.

1. Chemical vapor deposition of metals: Part 1. An overview of CVD processes

2. Plasma deposition of optical films and coatings: A review

3. Metalorganic chemical vapor deposition of III‐V semiconductors