Reaction of Dichlorophenylborane with H–Si(100)
Author:
Affiliation:
1. Sandia National Laboratories, Albuquerque, New Mexico 87185, United States
2. University of New Mexico, Albuquerque, New Mexico 87131, United States
Funder
Sandia National Laboratories
Publisher
American Chemical Society (ACS)
Subject
General Chemical Engineering,General Chemistry
Link
https://pubs.acs.org/doi/pdf/10.1021/acsomega.1c04619
Reference39 articles.
1. Atomically Precise Placement of Single Dopants in Si
2. The sub-band structure of atomically sharp dopant profiles in silicon
3. Bipolar device fabrication using a scanning tunnelling microscope
4. B-Doped δ-Layers and Nanowires from Area-Selective Deposition of BCl3 on Si(100)
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