Surface-Nanostructured Al–AlN Composite Thin Films with Excellent Broad-Band Antireflection Properties Fabricated by Limited Reactive Sputtering

Author:

Yuan Qian1,Döll Joachim2,Romanus Henry2,Wang Hongmei1,Bartsch Heike3,Albrecht Arne2,Hoffmann Martin4,Schaaf Peter1,Wang Dong1ORCID

Affiliation:

1. FG Werkstoffe der Elektrotechnik, Institut für Werkstofftechnik und Institut für Mikro- und Nanotechnologien MacroNano, Technische Universität Ilmenau, Gustav-Kirchhoff-Strasse 5, 98693 Ilmenau, Germany

2. Zentrum für Mikro- und Nanotechnologien, Technische Universität Ilmenau, Gustav-Kirchhoff-Strasse 7, 98693 Ilmenau, Germany

3. FG Elektroniktechnologie, Institut für Mikro- und Nanotechnologien MacroNano, Technische Universität Ilmenau, Gustav-Kirchhoff-Strasse 1, 98693 Ilmenau, Germany

4. Lehrstuhl für Mikrosystemtechnik, Ruhr-Universität Bochum, Universitätsstrasse 150, 44801 Bochum, Germany

Funder

Deutsche Forschungsgemeinschaft

Publisher

American Chemical Society (ACS)

Subject

General Materials Science

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