Untersuchung des Auf‐ und Abbaues von Wasserstoff‐ und Sauerstoffbelegungen an Platin mit einer neuen instationären Methode

Abstract

AbstractEs wird ein Verfahren für elektrodenkinetische Messungen und seine Anwendung zur Untersuchung von Adsorptionserscheinungen an Platin beschrieben. Die Methode besteht im wesentlichen darin, daß zwischen der Versuchselektrode und einer Bezugselektrode praktisch stromlos eine Gleichspannung und cine Dreieckspannung variabler Amplitude und Frequenz mittels eines elektronischen Potentiostaten vorgegeben und der Zellenstrom oszillographisch registriert wird. Steigert man die Frequenz der periodischen Dreieckspannung, so ergibt sich bei Wasserstoffbespülung der Elektrode ein stetiger Übergang von der hauptsächlich durch die Transportvorgänge bedingten stationären zu der im wesentlichen durch die Umladungsvorgänge bestimmten instationären Kurve. Bei Anwendung von Stickstoffbespülung konnte zwischen 400 und 800 m V die Doppelschichtkapazität bestimmt und als unabhängig von der Dreieckfrequenz erwiesen werden. Der Auf‐ und Abbau der auf der Elektrodenoberfläche adsorbierten Wasserstoff‐ und Sauerstoffbelegungen in Abhängigkeit von der Bezugsspannung wurde durch graphische Integration der erhaltenen Strom‐Zeit‐Kurven quantitativ ermittelt. Die beim Schicht‐Aufbau und ‐Abbau vorhandenen Reaktionshemmungen wurden durch Variation der Dreieckfrequenz untersucht. Eine besonders große Hemmung ergab sich für den Abbau der Sauerstoffadsorptionsschichten, jedoch ist auch eine kennzeichnende Hemmung beim Auf‐ und Abbau der Wasserstoffschichten feststellbar. Die Untersuchung des Einflusses der anodischen Vorbehandlung der Elektrode ergab, daß durch diese “Aktivierung” neben der Reinigung eine beträchtliche Aufrauhung der Oberfläche eintritt, die im Laufe der Zeit wieder zurückgeht.