Schabversuche an einer rotierenden Silberelektrode in alkalischer Lösung und Messung der Niveauladung bei intermittiert galvanostatischer Belastung

Abstract

AbstractEs wird die Herstellung einer schichtfreien, von der Vorbehandlung unabhängigen Metalloberfläche durch Abschaben der Phasengrenzfläche am Beispiel Ag/KOH‐Lösung beschrieben. Dabei wird die zur Aufklärung von Elektrodenreaktionen an den Stoffsystemen Silber‐[1] [2], Blei‐[1] [2], Cadmium‐[3] [2], Eisen‐[4], Platin‐[5] und Kupfer/wäßrige Lösung [6] [2] schon mehrfach verwendete Meßmethode der intermittiert galvanostatischen Belastung mit oszillographischer Registrierung der Bezugsspannung zur Aufnahme von UH(t)I‐Kurven verwendet. Beispielsweise zeigt sich, daß eine anodisch primär gebildete Ag2O‐Schicht durch eine anschließende kathodische Belastung nicht vollständig reduziert wird. Die Untersuchungen der Niveauladungen zeigen, daß der Auf‐ und Abbau der Ag2O‐Schicht reversibel verläuft, aber etwas Ag2O aus AgO + Ag irreversibel entsteht. Aus dem zeitlichen Verlauf der Bezugsspannung ergaben sich Hinweise für die Bildung einer Sauerstoff‐Chemiesorptionsschicht und einer Silber‐Hydridschicht.