Evaluation of Internal Structure of GaN High Electron Mobility Transistor

Author:

Kato Keiichiro1,Yamamoto Hidekazu1,Satoh Nobuo1

Affiliation:

1. Chiba Institute of Technology

Publisher

Institute of Electrical Engineers of Japan (IEE Japan)

Subject

Electrical and Electronic Engineering,Mechanical Engineering

Reference33 articles.

1. (1) 資源エネルギー庁 電力・ガス事業部 電力産業・市場室 調査班:「結果概要(2021年5月分)」(2021) https://www.enecho.meti.go.jp/statistics/electric_power/ep002/pdf/2021/0-2021.pdf

2. (2) M. Sato : “Thermal Power Generation Technologies”, Journal of the Combustion Society of Japan, Vol. 53, No. 165, pp. 159-164 (2011) (in Japanese)

3. (3) 山本秀和・佐藤宣夫・橋詰 保:「総論」, 電学誌, Vol. 137, No. 10, pp. 673-674 (2017)

4. (4) 大橋弘通:「最新のパワーデバイスの動向 シリコンパワーデバイスの限界と突破技術」, 電学誌, Vol. 122, No. 3, p. 168 (2002)

5. (5) 山本秀和:「パワーデバイス用Si結晶」, 電学誌, Vol. 137, No. 10, pp. 675-676 (2017)

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