1. Overview Of Process Integration Issues For Low K Dielectrics
2. S. Sankaran, S. Arai, R. Augur, M. Beck, G. Biery, T. Bolom, G. Bonilla, O. Bravo, K. Chanda, M. Chase, F. Chen, L. Clevenger, S. Cohen, A. Cowley, P. Davis, J. Demarest, J. Doyle, C. Dimitrakopoulos, L. Economikos, D. Edelstein, M. Farooq, R. Filippi, J. Fitzsimmons, N. Fuller, S.M. Gates, S.E. Greco, A. Grill, S. Grunow, R. Hannon, K. Ida, D. Jung, E. Kaltalioglu, M. Kelling, T. Ko, K. Kumar, C. Labelle, H. Landis, M.W. Lane, W. Landers, M. Lee, W. Li, E. Liniger, X. Liu, J.R. Lloyd, W. Liu, N. Lustig, K. Malone, S. Marokkey, G. Matusiewicz, P.S. McLaughlin, P.V. McLaughlin, S. Mehta, I. Melville, K. Miyata, B. Moon, S. Nitta, D.Nguyen, L. Nicholson, D. Nielsen, P. Ong, K. Patel, V. Patel, W. Park, J. Pellerin, S. Ponoth, K. Petraca, D. Rath, D. Restaino, S. Rhee, E.T. Ryan, H. Shoba, A. Simon, E. Simonyi, T.M. Shaw, T. Spooer, T. Standaert, J. Sucharitaves, C. Tian, H. Wendt, J. Werking, J. Widodo, L. Wiggins, R. Winsnieff, T. Ivers, in: Proceedings of IEDM 2006, 2006, pp. 355–358.
3. S. Matsumoto, T. Harada, Y. Morinaga, D. Inagaki, J. Shibata, T. Tashiro, T. Kabe, A. Iwasaki, S. Hirao, M. Tsutsue, K. Nomura, K. Seo, T. Hinomura, N. Torazawa, S. Suzuki, K. Kobayashi, H. Korogi, H. Okamura, Y. Kanda, T. Shigetoshi, M. Watanabe, K. Tomiyama, H. Shimizu, M. Matsumoto, T. Sasaki, T. Hamatani, K. Hagihara, T. Ueda, in: Proceedings of IITC 2010, 2010, p. 10.5.
4. M. Shimada, Y. Ohtsuka, T. Harada, A. Tsustsumida, K. Inukai, H. Hashimoto, S. Ogawa, in: Proceedings of IITC2005, 2005, p. 5.2.
5. T. Chevoleau, N. Possemu, T. David, R. Bouyssou3, J. Ducote, F. Baily, M. Darnon, M. El Kodadi, M. Besaciera, C. Licitra, L. Guilermet, A. Ostrovsky, C. Verove, O. Joubert, in: Proceedings of IITC2010, 2010, p. 5.1.