Process Simulation: Kinetic Monte Carlo

Author:

Martin-Bragado I.,Jaraiz M.

Publisher

Elsevier

Reference33 articles.

1. Physical modeling and implementation scheme of native defect diffusion and interdiffusion in SiGe heterostructures for atomistic process simulation;Castrillo;J. Appl. Phys.,2011

2. Fundamental diffusion issues for deep-submicron device processing;Cowern;Int. Electron Dev. Meet. Proc.,1999

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4. Ion beam induced defects in crystalline silicon;Cristiano;Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. B: Beam Interact. Mater. Atoms,2004

5. Regrowth behavior of ionimplanted amorphous layers on <111> Silicon;Csepregi;Appl. Phys. Lett.,1976

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