Characterization techniques in energy generation and storage

Author:

Fleck N.,Amli H.,Dhanak V.,Ahmed Waqar

Publisher

Elsevier

Reference45 articles.

1. NIST X-ray Photoelectron Spectroscopy Database, NIST Standard Reference Database Number 20, National Institute of Standards and Technology, Gaithersburg MD, 20899 (2000), doi:10.18434/T4T88K, (retrieved [08/04/2020]).

2. Work function of fluorine doped tin oxide;Helander;J. Vac. Sci. & Technol. A.,2011

3. Semiconductor core-level to valence-band maximum binding-energy differences: precise determination by x-ray photoelectron spectroscopy;Kraut;Phys. Rev. B.,1983

4. XPS and angle resolved XPS, in the semiconductor industry: characterization and metrology control of ultra-thin films;Brundle;J. Electron. Spectrosc. Relat. Phenom.,2010

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