20 nm high performance enhancement mode InP HEMT with heavily doped S/D regions for future THz applications

Author:

Ajayan J.,Nirmal D.

Publisher

Elsevier BV

Subject

Electrical and Electronic Engineering,Condensed Matter Physics,General Materials Science

Reference39 articles.

1. 30-nm InAs PHEMTs with fT=644 GHz and fmax=681 GHz;Kim;IEEE Electron Device Lett.,2010

2. 30-nm InAs pseudomorphic HEMTs on an InP substrate with a current-gain cut off frequency of 628 GHz;Kim;IEEE Electron Device Lett.,2008

3. A review of InP/InAlAs∖InGaAs based transistors for high frequency applications;Ajayan;Superlattices Microstruct. Elsevier,2015

4. Sub 50 nm InP HEMT device with fmax greater than 1 THz;Lai,2007

5. THz monolithic integrated circuits using InP high electron mobility transistors;Deal;IEEE Tans. Terahertz Sci. Technol.,2011

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