Rapid thermal oxidation of highly in situ phosphorus doped polysilicon thin films
Author:
Publisher
Elsevier BV
Subject
Mechanical Engineering,Mechanics of Materials,Condensed Matter Physics,General Materials Science
Reference19 articles.
1. Thermal Oxidation of Phosphorus‐Doped Polycrystalline Silicon in Wet Oxygen
2. Thermal Oxidation of Heavily Phosphorus‐Doped Thin Films of Polycrystalline Silicon
3. Evolution de la taille des grains du silicium polycristallin pendant des traitements thermiques ou oxydation
4. Structural and electrical characterization of thin polyoxides for nonvolatile memory applications
5. Silicon Oxidation Studies: Morphological Aspects of the Oxidation of Polycrystalline Silicon
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1. Effects of thermal oxidation conditions of silicon electrodes on cathodic electrochemiluminescence of Ru(bpy)32+ chelate;Electrochimica Acta;2006-04
2. Dépôt chimique en phase vapeur et à basse pression de couches minces à base de silicium dans un réacteur à lampes halogène;Canadian Journal of Physics;2000-02-01
3. Dépôt chimique en phase vapeur et à basse pression de couches minces à base de silicium dans un réacteur à lampes halogène;Canadian Journal of Physics;1999
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