Low energy, oxygen dose optimization for thin film separation by implanted oxygen

Author:

Robinson A.K.,Li Y.,Marsh C.D.,Chater R.J.,Hemment P.L.F.,Kilner J.A.,Booker G.R.

Publisher

Elsevier BV

Subject

Mechanical Engineering,Mechanics of Materials,Condensed Matter Physics,General Materials Science

Reference16 articles.

1. SOI/SOS Workshop;Auberton-Herve,1990

2. J. M. Lamure, B. Biasse, C. Jaussaud, A. M. Papon, J. F. Michaud, F. Gusella, C. Pudda, A. M. Cartier, A. Souble and J. Margail, 1990 IEEE SOS/SOI Technology Conf., Key West, FL.

3. High quality Si‐on‐SiO2films by large dose oxygen implantation and lamp annealing

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