Effect of low-energy ion assistance on the properties of sputtered ZrB2 films

Author:

Schnitter Claudia,Petrov Ivan,Zhirkov Igor,Hultman Lars,Palisaitis Justinas,Rosen Johanna,Högberg Hans

Publisher

Elsevier BV

Subject

Surfaces, Coatings and Films,Condensed Matter Physics,Instrumentation

Reference36 articles.

1. Metallization and glassing of silicon integrated circuits;Nelson,1969

2. Diffusion barriers in thin films;Nicolet;Thin Solid Films,1978

3. Diboride diffusion barriers in silicon and GaAs technology;Shappirio;J. Vac. Sci. Technol. B Microelectron. Process. Phenom.,1986

4. Borides in thin film technology;Mitterer;J. Solid State Chem.,1997

5. Self-organized nanocolumnar structure in superhard TiB2 thin films;Mayrhofer;Appl. Phys. Lett.,2005

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