Abbildende Müller-Matrix-Ellipsometrie für die Charakterisierung vereinzelter Nanostrukturen

Author:

Käseberg Tim1ORCID,Grundmann Jana1,Siefke Thomas2,Kroker Stefanie3,Bodermann Bernd1

Affiliation:

1. 39428 Physikalisch-Technische Bundesanstalt Braunschweig , Bundesallee 100 , Braunschweig , Deutschland

2. 9378 Friedrich-Schiller-Universität Jena , Institut für Angewandte Physik , Albert-Einstein-Straße 15 , Jena , Deutschland

3. 26527 Technische Universität Braunschweig , Institut für Halbleitertechnik, LENA Laboratory for Emerging Nanometrology , Hans-Sommer-Str. 66 , Braunschweig , Deutschland

Abstract

Zusammenfassung Ellipsometrie ist eine der vielseitigsten Methoden zur optischen Nanostrukturcharakterisierung. Insbesondere die Müller-Matrix-Ellipsometrie ermöglicht die Messung von optischen oder geometrischen Parametern mit Genauigkeiten bis in den Sub-Nanometer-Bereich. In der konventionellen Ellipsometrie wird dabei über die komplette Beleuchtungspunktgröße gemittelt. Wenn der strukturierte Bereich auf der Probe kleiner ist als der Beleuchtungspunkt, oder die Struktur keine Periodizität aufweist, kann das Messergebnis durch in den Randbereichen reflektiertes Licht beeinträchtigt werden. Besonders problematisch ist dies bei freistehenden Nanostrukturen mit charakteristischen Größen kleiner als die Beleuchtungspunktgröße. In solchen Fällen kann abbildende Ellipsometrie genutzt werden. Dabei wird eine Müller-Matrix für jedes Pixel in einem Kamerabild gemessen, wodurch der Polarisationseinfluss der Probe lokal bestimmt wird. In diesem Beitrag liefern wir Ansätze, konkrete Zusammenhänge zwischen geometrischen Eigenschaften von Nanostrukturen auf Nebendiagonalelemente der Müller-Matrix zu ermitteln. Dazu haben wir einen Aufbau für die Messung von Müller-Matrix-Bildern bei verschiedenen Einfallswinkeln in Transmission und Reflexion realisiert sowie eine Probe gefertigt, mit der wir geometrische Struktureigenschaften in Müller-Matrix-Bildern systematisch messen. Wir stellen Messungen sowie numerische Simulationen zum Vergleich der Ergebnisse vor. Des Weiteren diskutieren wir thermische Einflüsse auf Messergebnisse und stellen einen Algorithmus zu deren Behandlung vor.

Funder

European Association of National Metrology Institutes

Deutsche Forschungsgemeinschaft

Publisher

Walter de Gruyter GmbH

Subject

Electrical and Electronic Engineering,Instrumentation

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