High emittance source for the PREVAIL projection lithography system
Author:
Publisher
American Vacuum Society
Subject
General Engineering
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1. Influence of surface roughness on space charge limited emission;Applied Surface Science;2004-06
2. Full-field exposure performance of electron projection lithography tool;Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures;2004
3. Progress and Preliminary Results on EB Stepper;Japanese Journal of Applied Physics;2002-06-30
4. PREVAIL—Electron projection technology approach for next-generation lithography;IBM Journal of Research and Development;2001-09
5. PREVAIL e-beam stepper alpha tool;Microelectronic Engineering;2001-09
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