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Thermal annealing effects on grain boundary recombination activity in silicon

  • Published:1989-09 Issue:3 Volume:49 Page:233-237
  • ISSN:0721-7250
  • Container-title:Applied Physics A Solids and Surfaces
  • language:en
  • Short-container-title:Appl. Phys. A

Author:

Barhdadi A.,Amzil H.,Muller J. C.,Siffert P.

Publisher

Springer Science and Business Media LLC

Subject

General Materials Science,General Chemistry,Physics and Astronomy (miscellaneous),General Engineering,General Materials Science

Reference20 articles.

1. J.C. Muller: Thesis, Louis Pasteur University, Strasbourg (1982)

2. W.O. Adekoya: Thesis, Paris VII Jussieu University, Paris (1987)

3. W.O. Adekoya, J.C. Muller, P. Siffert: Appl. Phys. Lett49, 21 (1986)

4. Groupe du laboratoire de Physique de la Matière (UA du CNRS no. 358) Institut des Sciences Appliquées de Lyon, France

5. R. Singh: J. Appl. Phys.63, 8 (1988)

Cited by 4 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

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