Low pressure plasma etching of silicon carbide
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Publisher
Springer Science and Business Media LLC
Subject
General Materials Science,General Chemistry
Link
http://link.springer.com/content/pdf/10.1007/s00339-004-2774-z.pdf
Reference18 articles.
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1. A Novel Approach for Oxide Scale Growth Characterization: Combining Etching with Atomic Force Microscopy;Scanning Probe Microscopy in Nanoscience and Nanotechnology 2;2010-11-15
1.学者识别学者识别
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