Development of 6DOF Magnetic Levitation Stage for Lithography Tool

Author:

TANAKA Keiichi

Publisher

Japan Society for Precision Engineering

Subject

Mechanical Engineering

Reference7 articles.

1. 1) 特許公開平11-196560.

2. 2) 崎野茂夫,堆浩太郎:FA機器に学ぶ高精度位置決めのためのモータ選定 半導体製造用ステッパ(スキャナ)における高精度位置決め制御とモータ選定,機械設計,45,14(2001)37.

3. 3) 涌井伸二:半導体露光装置の制御,日本機械学会誌,103,977(2000)250.

4. 4) 深川容三,宮代隆平,中森真理雄:半導体露光装置におけるディストーション計測の高精度化,精密工学会誌,71,11 (2005)250.

5. 5) 伊藤一博,佐藤文昭,冨田良幸:6自由度微動ステージの開発(第1報)ステージ構造と基本駆動特性,精密工学会大会学術講演会講演論文集,1989,Autumn 3(1989)681.

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