Application of ICP-MS for incoming chemical quality control in wafer fabrication
Author:
Affiliation:
1. Globalfoundries Pte Ltd,QRA-PFA
2. Globalfoundries Pte Ltd,Facilities Operation
3. Globalfoundries Pte Ltd,TEQ Material Engineering,Singapore,738406
Publisher
IEEE
Link
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/10248978/10248979/10249093.pdf?arnumber=10249093
Reference11 articles.
1. 30-Minute Guide to ICP-Perkin Elmer;shakra;PerkinElmer,2011
2. Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing;Application Compendium Agilent Technologies Inc USA,2022
3. Influence of Metallic Contamination on Dielectric Degradation of MOS Structures
4. A study on device robustness with integrated effects from low parts-per-billion level of metallic elements in wafer cleaning process chemicals
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