A 2-Layer Transistor Pixel Stacked CMOS Image Sensor with Oxide-Based Full Trench Isolation for Large Full Well Capacity and High Quantum Efficiency

Author:

Zaitsu K.1,Matsumoto A.1,Nishida M.1,Tanaka Y.1,Yamashita H.1,Satake Y.1,Watanabe T.2,Araki K.2,Nei N.2,Nakazawa K.1,Yamamoto J.1,Uehara M.1,Kawashima H.2,Kobayashi Y.2,Hirano T.1,Tatani K.1

Affiliation:

1. Sony Semiconductor Solutions Corp.,Kanagawa,Japan

2. Sony Semiconductor Manufacturing Corp.,Nagasaki,Japan

Publisher

IEEE

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