基于相变薄膜高分辨激光直写光刻研究进展(特邀)

Author:

Guo Jialong 郭嘉龙,Wei Tao 魏涛,Wei Jingsong 魏劲松,Hu Jing 胡敬,Cheng Miao 程淼,Liu Qianqian 刘倩倩,Wang Ruirui 王瑞瑞,Li Wanfei 李宛飞,Liu Bo 刘波

Publisher

Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics

Reference73 articles.

1. Nanolithography and its current advancements;S K Jain;Materials Today: Proceedings,2020

2. Thermal scanning probe lithography-a review;A Grushina;Microsystems & Nanoengineering,2020

3. Progresses on new generation laser direct writing technique;B.Li;Materials Today Nano,2021

4. Next generation of extreme-resolution electron beam lithography;J Lake;Journal of Vacuum Science Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures,2019

5. Helium-ion-beam nanofabrication: extreme processes and applications;S He;International Journal of Extreme Manufacturing,2021

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