极紫外光栅波导中TE0模式有效折射率分析

Author:

Mao Yaxing 毛亚星,Cao Qing 曹清,Cheng Changjie 程长杰,Zhu Jirui 朱吉瑞,Chen Wenxuan 陈文轩,Xiao Xiaolin 肖晓琳

Publisher

Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics

Reference51 articles.

1. Attenuated phase shift masks: a wild card resolution enhancement for extreme ultraviolet lithography?;A Erdmann;Journal of Micro/Nanopatterning,2022

2. Deep UV lithography process in generic InP integration for arrayed waveguide gratings;H Ambrosius;IEEE Photonics Technology Letters,2018

3. The potential of EUV lithography;H J Levinson;Proceedings of SPIE,2019

4. Principle and technology of laser super-diffraction lithography;X M Duan;Laser & Optoelectronics Progress,2022

5. 激光超衍射光刻原理与技术;梁紫鑫;激光与光电子学进展,2022

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