AES, EELS and TRIM simulation method study of InP(100) subjected to Ar+, He+and H+ions bombardment.

Author:

Ghaffour M.,Abdellaoui A.,Bouslama M.,Ouerdane A.,Abidri B.

Publisher

EDP Sciences

Cited by 2 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献,注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献,订阅后可以查看论文全部施引文献

1. CMOS-Compatible Contacts to n-InP;IEEE Transactions on Electron Devices;2017-11

2. Phase formation sequence in the Ti/InP system during thin film solid-state reactions;Journal of Applied Physics;2017-06-28

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