Etude physicochimique et structurale de nitrures et d'oxynitrures de silicium très minces formés par traitement thermique rapide
Author:
Publisher
EDP Sciences
Subject
General Physics and Astronomy,General Engineering
Link
http://jp3.journaldephysique.org/10.1051/jp3:1995146/pdf
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1. Composition of Ta2O5 stacked films on N2O- and NH3-nitrided Si;Applied Surface Science;2006-12
2. Chemical, optical, vibrational and luminescent properties of hydrogenated silicon-rich oxynitride films;Thin Solid Films;2005-02
3. Chemical structure of ultrathin SiO2 film with nitrogen incorporated by remote nitrogen plasma;Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films;2002-09
4. Préparation et caractérisation de couches minces d'oxynitrure de phosphore destinées à la passivation d'InP;Journal de Physique III;1996-11
5. Influence of nitrogen profile on electrical characteristics of furnace‐ or rapid thermally nitrided silicon dioxide films;Journal of Applied Physics;1996-05-01
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