1. 1. Gallatin, G. M.; Naulleau, P.; Niakoula, D.; Brainard, R.; Hassanein, E.; Matyi, R.; Thackeray, J.; Spear, K.; Dean, K. Proc. SPIE, 2008, 6921, 69211E.
2. 2. Lawson, R. A.; Lee, C.-T.; Yueh, W.; Tolbert, L.; Henderson, C. L. Proc. SPIE, 2008, 6923, 69230Q.
3. 3. Gallatin, G. M.; Naulleau, P.; Brainard, R. Proc. SPIE, 2007, 6519, 651911.
4. 4. Goethals, A.-M.; Hendrickx, E.; Jonckheere, R.; Lorusso, G. F.; Baudemprez, B.; Hermans, J.; Laidler, D.; Niroomand, A.; Van Roey, F.; Van Dijk, A.; Romijn, L.; Stepanenko, N.; Timoshkov, V.; Iwamoto, F.; Myers, A.; Hyun, Y.; Lim, C.; Pollentier, I.; Leeson, M.; de Marneffe, J-F.; Demuynck, S.; Ronse K. "Implementation of full field EUVL lithography using the ADT," International EUVL Symposium, Sep.29-Oct1 2008, Lake Tahoe, CA.
5. 5. Koh, C.; Wurm, S.; Park, J.; Ma, A.; Naulleau, P. "Sub-22nm half pitch (HP) EUV resist imaging results" International EUVL Symposium, Sep.29-Oct1 2008, Lake Tahoe, CA.