1. Mistry K. Allen C. Auth C. Beattie B. Bergstrom D. Bost M. Brazier M. Buehler M. Cappellani A. Chau R. Choi C. H. Ding G. Fischer K. Ghani T. Grover R. Han W. Hanken D. Hattendorf M. He J. Hicks J. Huessner R. Ingerly D. Jain P. James R. Jong L. Joshi S. Kenyon C. Kuhn K. Lee K. Liu H. Maiz J. McIntyre B. Moon P. Neirynck J. Pae S. Parker C. Parsons D. Prasad C. Pipes L. Prince M. Ranade P. Reynolds T. Sandford J. Shifren L. Sebastian J. Seiple J. Simon D. Sivakumar S. Smith P. Thomas C. Troeger T. Vandervoorn P. Williams S. Zawadzki K. , presented at the Electron Devices Meeting, 2007. IEDM 2007. IEEE International, 2007 (unpublished).
2. King K.-J. , 2012 Symposium on VLSI Technology (VLSI-Technology), Short course (2012).
3. Jan C. H. Bhattacharya U. Brain R. Choi S. J. Curello G. Gupta G. Hafez W. Jang M. Kang M. Komeyli K. Leo T. Nidhi N. Pan L. Park J. Phoa K. Rahman A. Staus C. Tashiro H. Tsai C. Vandervoorn P. Yang L. Yeh J. Y. Bai P. , presented at the Electron Devices Meeting (IEDM), 2012 IEEE International, 2012 (unpublished).
4. Atomic Layer Deposition: An Overview
5. Surface chemistry of atomic layer deposition: A case study for the trimethylaluminum/water process