Optical properties of alternating phase-shifting masks
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Publisher
SPIE
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1. Modeling high-efficiency extreme ultraviolet etched multilayer phase-shift masks;Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS;2017-12-09
2. Novel solution for in-die phase control under scanner equivalent optical settings for 45nm node and below;SPIE Proceedings;2007-05-03
3. Phame: a novel phase metrology tool of Carl Zeiss for in-die phase measurements under scanner relevant optical settings;SPIE Proceedings;2007-03-16
4. Study of rigorous effects and polarization on phase shifting masks through simulations and in-die phase measurements;SPIE Proceedings;2007-03-16
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