Triple AIM evaluation and application in advanced node

Author:

Wang Gary C.1,Lio En Chuan1,Hung Yuting1,Chen Charlie1,Wang Sybil1,Weng Tang Chun1,Lin Bill1,Yu Chun Chi1

Affiliation:

1. UMC Taiwan (Taiwan)

Publisher

SPIE

Reference6 articles.

1. Multi-Layer Overlay Measurement Recent Developments;Nuriel,2013

2. Smaller, smarter, faster and more accurate: The new overlay metrology;Nelson,2010

3. ITRS Metrology roadmap; http://www.itrs.net/Links/2011ITRS/2011Chapters/2011Metrology.pdf

4. Double patterning for 32nm and below: an update;Jo,2008

5. Overlay target design and evaluation for SADP process

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