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Novel OPC flow for the trim-mask lithography

  • Published:2012-06-30 Issue: Volume: Page:
  • ISSN:0277-786X
  • Container-title:SPIE Proceedings
  • language:
  • Short-container-title:

Author:

Kojima Yasushi,Moniwa Akemi,Maruyama Tatsuya,Ishibashi Manabu,Taoka Hironobu

Publisher

SPIE

Cited by 2 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

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