Ion beam etch for the patterning of advanced absorber materials for EUV masks

Author:

Rook Katrina,Srinivasan Narasimhan,Ip Vincent,Lee Meng,Henry Tania

Publisher

SPIE

Reference10 articles.

1. [EUV Lithography];Bakshi,2018

2. Mask blanks for extreme ultraviolet lithography: Ion beam sputter deposition of low defect density Mo/Si multilayers

3. TaN EUVL mask fabrication and characterization;Yan,2001

4. Study of alternative capping and absorber layers for extreme ultraviolet (EUV) masks for sub-16 nm half-pitch nodes;Rastegar,2014

5. Alternative materials for high numerical aperture extreme ultraviolet lithography mask stacks;Wood,2015

Cited by 2 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献,注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献,订阅后可以查看论文全部施引文献

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