Recent advances in the Sandia EUV 10x microstepper

Author:

Goldsmith John E. M.,Barr Pamela K.,Berger Kurt W.,Bernardez II Luis J.,Cardinale Gregory F.,Darnold Joel R.,Folk Daniel R.,Haney Steven J.,Henderson Craig C.,Jefferson Karen J.,Krenz Kevin D.,Kubiak Glenn D.,Nissen Rodney P.,O'Connell Donna J.,Perras Yon E.,Ray-Chaudhuri Avijit K.,Smith Tony G.,Stulen Richard H.,Tichenor Daniel A.,Ver Berkmoes Alfred A.,Wronosky John B.

Publisher

SPIE

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1. 极紫外光刻机曝光系统光学设计研究与进展;Acta Optica Sinica;2023

2. Aerial image improvements on the Intel MET;SPIE Proceedings;2010-03-11

3. Exposing extreme ultraviolet lithography at Intel;Microelectronic Engineering;2006-04

4. EUVL masks: paving the path for commercialization;SPIE Proceedings;2001-09-05

5. Multilayer coating and test of the optics for two new 10× Microstepper extreme-ultraviolet lithography cameras;Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures;2001

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