LPP source system development for HVM

Author:

Brandt David C.,Fomenkov Igor V.,Ershov Alex I.,Partlo William N.,Myers David W.,Böwering Norbert R.,Farrar Nigel R.,Vaschenko Georgiy O.,Khodykin Oleh V.,Bykanov Alexander N.,Hoffman Jerzy R.,Chrobak Christopher P.,Srivastava Shailendra N.,Ahmad Imtiaz,Rajyaguru Chirag,Golich Daniel J.,Vidusek David A.,De Dea Silvia,Hou Richard R.

Publisher

SPIE

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1. 计算光刻研究及进展;Laser & Optoelectronics Progress;2022

2. Non-axisymmetric droplet irradiation effects on ion and extreme ultraviolet light emission of laser-produced plasma light sources;Journal of Applied Physics;2021-06-21

3. EUV Sources;Handbook of Laser Micro- and Nano-Engineering;2021

4. EUV Sources;Handbook of Laser Micro- and Nano-Engineering;2021

5. Light sources for high-volume manufacturing EUV lithography: technology, performance, and power scaling;Advanced Optical Technologies;2017-01-01

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