Highly anisotropic etching of phase-shift masks using ICP of CF 4 -SF 6 -CHF 3 gas mixtures

Author:

Choi Se-Jong,Cha Han-Sun,Yoon Si-Yeul,Kim Yong-Dae,Lee Dong-Hyuk,Kim Jin-Min,Kim Jin-Su,Min Dong-Soo,Jang Pil-Jin,Chang Byung-Soo,Kwon Hyuk-Joo,Choi Boo-Yeon,Choi Sang-Soo,Jeong Soo Hong

Publisher

SPIE

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1. Photomask plasma etching: A review;Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures;2006

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