Study of swelling behavior in ArF resist during development by the QCM method (3): observations of swelling layer elastic modulus
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SPIE
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1. Challenges for immersion lithography extension based on negative tone imaging (NTI) process;SPIE Proceedings;2016-03-25
2. Challenges for Immersion Lithography Extension based on Negative Tone Imaging (NTI) Process;Journal of Photopolymer Science and Technology;2016
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